文|流明
本文陈述内容皆有可靠信息来源,赘述在文章结尾
前言最近我们中国又制造了一件震惊世界的大新闻。
据工业和信息化部9月9号发布的通知,我国光刻机技术已经得到重大突破,一举成为世界上唯一一个可以独立生产光刻机的国家。
这一消息的传出可谓是极大的振奋了民心,面对他国科技的封锁,光刻机可谓是我国人民心中长久以来的痛。
现在我国也成功研发出了光刻机,那么与世界水平相比,我国的光刻机技术是领先还是落后呢?
光刻机在如今的时代中,半导体行业几乎已经被视为全球经济和未来科技发展的重中之重,半导体领域涉及之广几乎囊括了我们熟知的每一种科技产物。
而光刻机则在半导体领域中有着至关重要的的地位,它就如同半导体领域的支柱,支撑着半导体领域的前进与发展。
在半导体领域的生产环节中,芯片的性能直接决定电子产品的质量如何,而光刻机正是能使芯片实现高性能的关键。
光刻机的工作原理极其复杂且精妙,它可以将光束准确投射到涂有光刻胶的硅片之上,利用光的特性来将预先设计好的电路模版搬运到到硅片之上,这期间如果出现任何的误差都会导致芯片的性能大大下降。
各个国家都曾投入了大量的资金进行光刻机的研发,可是能取得成果却只有寥寥几个国家。
我国在光刻技术上的发展也屡屡受挫,很长一段时间内我国光刻机都依赖于进口,随着我国综合国力的增强,许多国家都把中国视为威胁。
近年来,美国对我国进行了一系列的技术封锁,其中就有包含着光刻机技术,更是联合多国对我国芯片进行封锁,试图将我国的半导体事业发展速度降下来。
这一封锁措施对我国半导体行业造成了极大的冲击,但同时也激发了我国科研人员的斗志,势必要将光刻机研发出来。
中国光刻机问世当得知中国打算自主研发光刻机时,全世界任何一个国家都不曾看好中国,因为光刻机目前不是一家公司或者国家可以独立研发的。
但是中国的科学家们却不信这个邪,在经过无数次 尝试与失败后,终于实现这一壮举,并于9月9日的工业和信息化部的通告中低调的表示研发成功。
信息来源:金融界2024-09-18《国产光刻机取得重大进展,成熟芯片实现全流程国产化》
根据报告中显示,我国已经能够成功研制出能够制作直径300mm,照明波长193nm,分辨率≤65nm,套刻≤8nm芯片的光刻机。
虽然与世界顶尖技术相比,我国研发的光刻机在套刻程度上还差的远,但是我国能够研发光刻机这件事却依旧震惊了全世界。
因为中国的产品是由我国独立研发得来可以说是纯国产,而世界上其他的光刻机技术则是博众家之所长,集结了多个国家的技术的组装机。
中国独立研发的光刻机问世为我国的半导体行业提供了强而有力的支撑,这也意味着从此我国半导体行业再也不必看他国的脸色,成功摆脱了其他国家对我国半导体行业的限制。
同时,也意味着我国研发新芯片的成本大大降低,也极大程度上提高了我国芯片行业在全球市场中的市场竞争力。
这一成就也成功向世界彰显了中国科技的创新能力与实力,光刻机的制作需要攻克多个领域难题,而我国科学家能够成功攻克光刻机也意味着我国在多个科研领域都有了巨大突破。
光刻机制造到底有多难可能很多人都不理解,不过是攻克了一件设备的制造,为什么会令世界都震惊。
这就要从光刻机的工作原理说起,虽然光刻机这个东西已经出世好些年了,但是市面上的光刻机都是集许多国家的顶尖科技为一身的产物,并不是某一家企业或者某一国独立建造而来。
并不是其他国家不想,而是因为无能为力,毕竟光刻机的制作涉及到很多个科学领域 ,首先光刻机顾名思义需要用到光学。
信息来源:科学与中国2024-07-13《制造一台光刻机,究竟有多难?》
光学系统可谓是光刻机的核心部分,为了实现纳米级别的精度,光刻机需要使用高品质的透镜和反射镜,这些光学元件的制造要求极高的平整度和纯度,任何微小的瑕疵都会导致制作工艺的失败。
因此光刻机还需要能够实现高度精准操作的机器系统来加以辅佐,通过精密的计算来让光刻机的精准度达到近乎纳米级别。
为了能够实现近乎纳米级别的微操,光刻机对于工业领域的要求也是极高,需要能够对透镜进行极其精密的研磨和抛光,更需要精密的仪器来进行测量硅片上的图案。
不仅仅如此,光刻机除了本身的硬件设备以外,对于工作环境的要求更是苛刻,因为其对精准度的要求极高,并且是通过光来作业,所以光刻机需要在恒定温度和湿度以及无尘的环境中工作。
因此为了能够满足如此苛刻的工作条件,先进的温湿度控制系统和空气净化系统也是必不可少的。
综上所述,我们可以得知光刻机的研发需要国家在各大领域中都有着不小的成果后才可能进行,同时光刻机的研发需要大量的资金和人力投入,一般企业几乎无力承担这份消耗。
因此,当美国等国家对我国进行技术封锁时,几乎全世界都不看好中国,但事实证明他们想错了,如今属于中国的光刻机时代来临了。
小结中国成功研发光刻机,是我国科技发展历程中的一个重要的转折点,它向世界展示了中国在科技创新道路上的坚定决心和强大能力。
想必随着光刻机技术的不断完善和升级,我国半导体产业也必将迎来更加广阔的未来!
信息来源
金融界2024-09-18《国产光刻机取得重大进展,成熟芯片实现全流程国产化》
科学与中国2024-07-13《制造一台光刻机,究竟有多难?》
[免责声明]
文章描述过程、图片都来源于网络,此文章旨在倡导社会正能量,无低俗等不良引导。如涉及版权或者人物侵权问题,请及时联系我们,我们将第一时间删除内容!如有事件存疑部分,联系后即刻删除或作出更改。
中国以后用新的光刻机将实现全流程国产化,就是说我们不一定走美国荷兰的老路,说什么光刻机是世界几十个国家联合才能搞成,哈哈,我中国一个国家就可以搞惦。管美国、及美国的走狗——阿斯麦是啥反应,以后荷兰阿斯麦的光刻机白菜价也不买!
悔恨,与美国站在一起吃亏了吧?