在当今科技高速发展的时代，芯片作为信息技术核心中的核心，所代表的重要性不言而喻，在过去很长的一段时间里我国在这个领域被西方国家不断的“卡脖子”，在技术学习、设备引进、零件采购方面都被不断的进行限制，在这其中加工芯片必备的光刻机就是以美国为首西方国家限制我们芯片发展的一个重要武器！

外媒曾爆料过美国主导日本和荷兰两国迎合达成过一个秘密协议，对中国半导体产业进行违规的制裁，其中荷兰阿斯麦公司在这份制裁协议中充当着急先锋的角色，因为阿斯麦公司是全球光刻机市场的龙头企业，曾经中国各界对于这家公司的光刻机技术依赖度很高，但是他在美国政府频繁施加压力的情况下，不断的将与中方的贸易范围压缩，甚至像极紫外光刻机（EUV）这种非常重要的设备早早的就被完全禁止出口中国，这种行为充分的体现了美方的霸权行为，但那时我们并没有能力研制出国产光刻机，所以只能无奈的忍气吞声！

可是一再的忍让得到的却是霸权主义者的变本加厉，当地时间9月6日，又是在美方的簇拥和施压下，荷兰政府宣布扩大光刻机出口管制范围至浸没式深紫外光刻设备，这一波操作直接也不掩饰了，所有的限制竟然与美国在2023年10月更新的先进芯片制造技术出口管制政策完全对齐，这说明与其说这是荷兰政府做出的决定倒不如说这是白宫手把手帮荷兰政府制订的制裁条例，这下对于我国的影响其实还是蛮大的，因为我们当前对于荷兰光刻机的依赖度还是很高的！

正当美方沾沾自喜认为利用这种不正当的行为取得“巨大胜利”时，中方直接就给了他当头一棒，在9月9日的时候，工业信息化部默默地发布了2024版首台（套）重大科技目录，其中氟化氪光刻机（110nm）和氟化氩光刻机（65mm）都赫然在目。这也是国家首次宣布突破自主DUV光刻机！

这个消息就发布在荷兰迎合美方发出限制条例后的几天时间，这说明我们其实早已经做好准备，就是要给某些“敌对国家”看一看，我们虽然这么多年都依赖于国外的光刻机设备和技术，甚至维修都需要国外的工程师才能修好，这般“耻辱”我们铭记在心，我们在不断的努力不断的探索，打破给设置的堡垒艰难前行，终于我们成功了！

但我们并不会因此而骄傲自满，因为这种配置的光刻机放到国际层面上只能说是基础配置，毫无极高端或者领先可言，这个现象相信我们国家的科学家和技术人员也心知肚明，可是就是这种配置如果量产的话可以解决大部分企业和科研机构的需求，最起码不用再去看别人的脸色，现如今我们需要一步一个脚印不断的进行探索，将光刻机这个问题彻底的解决，那芯片技术在世界上就会有我们国家的一席之地！

加油，我的国！