“光刻机美国都造不出来，中国永远不可能造出来的！”
很难想象，这样一段涨他人志气、灭自己威风的话语，竟然出自中科大物理学教授朱士尧之口，这段简单的访谈视频在网络上炸开了锅。
那么，朱士尧为什么要说这种话？中国又是否真的造不出光刻机呢？
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国产光刻机的争论最近几年，中美芯片竞争的白热化，让光刻机这个制造高端芯片的关键设备成为了我国科学界“重点攻坚”的对象，还引发了无数公众的热切期待。
中国通信业研究者项立刚就多次发表了他对中国光刻机发展前景的乐观态度，可面对项立刚的“形式一片大好”，中科大副院长、物理学教授朱士尧也在访谈中提出了强烈质疑。
朱士尧作为华为公司原党委副书记，还是物理学教授，对于芯片技术和光刻机技术都有着十分独到的专业见解，他从专业角度，解释了光刻机技术的巨大难度。
朱士尧强调，光刻机是一个涉及光学、机械、电子、材料等多个领域尖端技术的复杂系统，其核心部件的极紫外光源、精密定位系统、超高清晰度光学系统等，也都是当前人类工程技术的极限。
以光刻机的精密定位系统为例，朱士尧指出，这种纳米级别的加工程序，需要一个能够在亚纳米级别精确控制位置的系统，对机械设计和控制算法都提出了极高的要求，是我们目前尚未达到的程度。
朱士尧表示，目前的光刻机制造，是整个欧美体系的尖端技术集合，目前全球领先的光刻机制造商ASML公司，也无法独立完成一款尖端光刻机的制造，他们的关键部件都来自各自领域的顶尖企业。
基于这些分析，朱士尧认为，即使是技术实力雄厚的美国都无法独立完成光刻机的研发制造，中国也同样不可能实现这项技术的突破。
朱士尧的观点确实存在一定的专业性和客观性，可这当中也显然存在着两个值得得商榷的地方，这也成为了朱士尧被网友们“骂上热搜”的“罪证”。
光刻机的制造，确实是全球合作的结果，可是美国做不到独立研发和制造显然不能类推出中国也无法做到，朱士尧的比较之中，忽视了中美两国在科技发展上的独特性和发展潜力上存在着很大不同。
此外，朱士尧对于中国“永远不可能”实现光刻机技术的突破，有些过于悲观与绝对了，这种绝对化的论断，不但缺乏科学依据，也忽视了科技发展的动态性。
当年，面对我国严重落后的海军情况，毛主席都能坚定地发出“核潜艇，一万年也要搞出来！”的伟大号召，今天已经逐渐屹立在东方之巅的中国科学家们，居然连赶超世界先进技术的勇气都没有了吗？
国产光刻机还有多远？最近几年，中国科技正处于蓬勃发展的关键时期，而多行业的齐头并进，为国产光刻机技术的突破奠定了基础，很多国内的专家学者也都发表了自己对于国产光刻机的见解。
中科院院士白春礼在回顾了中国光刻机发展的历史时指出，我国曾经在这一领域与国际水平相差不大，但因为进口光刻机的性价比更高，当时的相关企业普遍存在“造不如买”的思维，导致了自主研发的停滞。
白春礼院士的话，提醒我们技术发展需要持续不断的投入和坚持，不能因为一时的短期的经济利益，就放弃掉自己手上的关键技术和长远发展。
经济学家黄江南也多次强调，光刻机的制造者并非神明，西方科学家可以做到的事情，中国人只要坚持不懈地努力下去，一定也有实现光刻机自主研发的那一天。
不过，我们也需要清醒地认识到，中国当下的光刻机技术与世界顶尖水平还存在着不小的差距，这种技术落差，绝对不是一蹴而就的，需要我们继续坚持不懈地追赶欧美。
中微公司董事长尹志尧基于行业经验，估计中国的芯片技术，至少还需要5到10年的时间才能赶上国际先进水平，这一判断既让我们认识到我国在光刻机领域的不足，也为我们指明了行业的发展方向。
中国半导体行业协会理事长陈南翔则从整个芯片产业的角度进行了分析，他预测中国芯片行业还需要3到5年才能迎来爆发式增长，并强调我国当前的芯片自研仍处于艰难的攻坚阶段。
他们的观点虽然各有侧重，但都有一个共同特点，那就是中国在光刻机技术方面虽然面临挑战，但并非无法逾越，只要我们正视差距，保持信心，通过时间和持续努力不断，我们终究可以追赶上世界尖端水平。
当然，光刻机技术的突破不仅需要单个企业或研究机构的努力，更需要整个行业乃至全社会的支持，我们需要不断完善相关行业的人才培养和相关的产业链，不断弥补自己的技术差距。
在这个过程中，政府、企业、科研机构和高校需要通力合作，政府的政策支持与企业的资金投入，能够为光刻机的研发创造良好的科研环境，而科研机构和高校不断加强基础研究，培养高水平人才，则能助力我国的科技发展。
此外，我们应该意识到，光刻机技术是全球合作的结果，在坚持独立自主的大前提下，我们也应该积极开展国际合作，吸收全球先进经验，耐心地等待我国逐渐实现相关技术的积累和突破。
正视差距，然后反超与其他专家相比之下，朱士尧的观点虽然很有权威性，也客观地分析了国产光刻机的技术挑战与实际困境，但他看待问题的角度显然过于悲观和绝对，甚至直接打击了国内相关领域的研发热情。
可是，在中国的发展过程中，我们曾经无数次面对过国外的技术封锁，但每一次我们的科学家们都靠着强大的创新能力和突破精神，帮助我国走出困境。
从航天航空到高铁技术，从5G通信到人工智能，中国已经在太多的领域内实现了从跟随到引领的转变，这些成功案例不仅证明了中国科技创新的潜力，也为光刻机技术的突破提供了宝贵经验。
现如今，中国拥有全球最大规模的理工科人才储备，虽然有一部分尖端人才流失在了海外，但源源不断的人才供应，还是为中国的科技创新提供了巨大的智力支持。
半导体行业如今已经成为了中国的重点发展对象，而在光刻机技术的相关领域内，我国已经掌握了多项前沿科技，都为国产光刻机的诞生提供了技术支撑。
更为重要的是，中国作为全球制造业大国，有着极为强大的工业制造能力，我国较为完整的产业链和先进的制造工艺，让中国的技术转化更具优势的同时，也加速了我国的科技创新。
值得一提的是，国产光刻机在7纳米制程上已经实现了部分自研自产，这距离全球顶尖水平虽然还有着不小的差距，但也让我国在芯片主流市场上具备了一定的竞争力，刺激了相关从业者勇攀高峰的信心。
结语中国的光刻机技术突破，也许需要十年、二十年，甚至五十年，但在无数中华儿女的努力奋斗下，我们终将打破欧美封锁，实现这一技术的重大突破。
参考文献海峡快报——《中科院强势发声，剑指光刻机，解决西方卡脖子的难题》
https://baijiahao.baidu.com/s?id=1678516384128700419&wfr=spider&for=pc
金融界——《国产光刻机崛起：美国制裁下的中国半导体新机遇》
https://baijiahao.baidu.com/s?id=1804898702421009572&wfr=spider&for=pc
