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导读：2nm无需EUV光刻机，荷兰ASML始料未及，外媒：难怪加紧出货了

随着中国科技产业的快速发展，对光刻机的需求也在不断增长。作为全球最大的光刻机需求市场，中国大陆市场对于荷兰ASML等光刻机巨头企业来说，具有不可忽视的吸引力。然而，在美国芯片禁令的影响下，这些企业也面临着出口管制的压力。近日，佳能表示已经突破了5nm的NIL工艺，预计到2026年可以实现2nm的NIL工艺，这一消息让荷兰ASML也始料未及！

NIL工艺是一种不依赖于EUV光刻机的先进技术，它通过使用极紫外光线来刻画电路图案，从而避免了传统光刻机使用可见光或X射线刻画电路图案时所面临的分辨率限制。因此，NIL工艺可以生产出更精细的芯片，提高芯片的性能和功耗效率。佳能作为日本的一家光刻机巨头企业，一直以来都在致力于研发先进的NIL工艺，以抢占更多的市场份额。

对于ASML来说，它的EUV光刻机无疑是全球最先进的设备之一，也是其垄断市场份额的关键因素之一。然而，随着中国科技企业的崛起和日本企业的快速发展，ASML也面临着来自竞争对手的压力。尤其是当佳能宣布已经突破了5nm的NIL工艺时，ASML的地位也受到了威胁。因为这意味着未来2nm的芯片生产将不再依赖于EUV光刻机，而这是ASML独家供应的技术。

在这种情况下，ASML也不得不加紧对中国客户的出货。因为中国市场已经成为全球最大的光刻机需求市场之一，而且中国科技企业正在加快从ASML手中购买光刻机的速度。为了保持市场份额并满足中国客户的需求，ASML也不得不加快出货，以满足大陆市场的需求，并提前抢占市场。

事实上，除了ASML和佳能之外，中国的光刻机企业也在快速发展和崛起。例如，高能离子注入机；6英寸碳化硅生产线、28nm光刻机设备等突然破，不仅为中国半导体产业的发展提供了有力支持，也让我们看到了中国光刻企业的实力和潜力。

然而，尽管中国光刻企业已经取得了一定的进展，但是与荷兰ASML和日本佳能等国际巨头相比，我们的技术和实力还存在较大的差距。因此，我们需要继续加大研发力度和技术创新，提高自身的核心竞争力，以实现从中国制造向中国创造的跨越式发展。

此外，我们也需要加强产业链整合和国际合作。因为半导体产业是一个高度全球化的产业，任何一个环节的缺失都可能导致整个产业链的断裂。因此，我们需要加强与国际企业的合作和交流，共同推动半导体产业的发展和创新，只有将核心技术掌握在自己手中，才能避免被人“卡脖”！

最后，我们也需要看到中国半导体产业发展的机遇和挑战。随着5G、物联网、人工智能等新兴技术的快速发展和应用，半导体产业将迎来更加广阔的市场和发展空间。但是，我们也需要应对来自国际竞争、技术更新换代、知识产权保护等方面的挑战。只有通过不断努力和创新，才能在全球半导体市场中获得更大的话语权和主动权；对此你是怎么看的呢？