产光刻机再传喜讯!
中芯国际的DUV光刻机实现了500小时连续运行无故障,这在业界颇为罕见。中芯国际操作界面友好,支持中文,维护人员上门响应极为迅速,这些都给国外垄断企业造成了不小的压力。 光刻机最为关键的指标当属稳定性,稳定性直接关乎生产效率与良率。良率提高能产出更多芯片,生产成本也会大幅降低。 上海微电子在光刻胶国产化的基础上,于芯片制造的重要尺寸(制程)方面也取得了突破,制程精度的提升能够促使性能提升并降低功耗。 中科院团队突破国外专利封锁,走出封闭实验室,推动了国产光刻机的发展。 深圳新凯的7nm原型机良率相当不错,而且成本低廉,还采用了国产替代的新材料与新技术,节省了资金支出,为企业发展助力良多,也提升了市场竞争力。 福晶、华卓、彤程新材等在材料方面同样成绩斐然,为完善国产光刻机产业链奠定了基础,助力新凯等企业打破国外材料和设备的垄断。