去年，中国物理学教授朱士尧放言：中国不可能造出光刻机，美国都造不出来，中国更不可能。 而如今的我们，用实际行动把他狠狠地打脸了。 看现实进展。上海微电子的 28nm DUV 光刻机已经量产，虽说跟 ASML 的 EUV 差着代际，但这玩意儿能生产汽车电子、工业控制芯片，这些领域占全球芯片需求的 70% 以上。 再看技术突破。清华大学的光源方案，已经在《自然》杂志上验证，通过激光操控电子束产生极紫外光，理论上能解决 EUV 光源的核心难题。 哈尔滨工业大学更直接，2025 年 1 月就宣布研发出 13.5nm 波长的 EUV 光源，虽然功率只有 80W（ASML 的是 250W），但这是从 0 到 1 的突破。这些技术路线虽然还没完全成熟，但至少证明中国在光刻机的 “心脏” 部位有了自己的解法。 当年中国造原子弹时，西方断言 “20 年也搞不出来”，结果用了不到 10 年；航天领域被封锁，现在空间站、探月工程照样领跑。 说到底，光刻机不是单一技术的比拼，而是国家战略、工业体系、人才储备的综合较量。 中国在成熟制程上的技术链已经形成，新兴技术如光子芯片、二维晶体管正在另辟蹊径，加上庞大的市场需求和政策支持，完全有可能在光刻机领域实现 “换道超车”。 他的观点或许反映了当前的技术差距，但实际上，是低估了中国在复杂系统工程上的攻坚能力。
