美荷针对中国的计划彻底破灭，制裁不成范围中国突破，中国光刻机研发取得历史性突破，“卡脖子”局面正在打破。那么中国及时突破到了什么阶段？美西方还能继续封锁中国吗？

据中国工信部声明显示，我国已经正式研发出首台首台氟化氩光刻机，这种机器的光源为波长193纳米的激光，分辨率小于或等于65纳米，套刻精度小于或等于8纳米，能够用来制造先进制程的芯片。

对此，外媒也是争相报道，称中国已经研制出了能够生产8纳米及以下半导体芯片的光刻机，这意味着西方曾经的狂妄叫嚣成了笑话。不过也有外国专家保持质疑，认为中方还没有透露出良率信息等问题，这意味着这款光刻机或许不具备国际竞争力。

从技术层面上来看，套刻精度也就是“多重曝光能达到的最高精度”，它并不能代表制造制程节点，按套刻精度与量产工艺1:3的关系，这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片，该程度在国际范围其实并不具备竞争力，因为西方在15年前就达到这一水平。

但有一点需要注意，那就是中国在半导体领域发展落后西方国家近半个世纪，我们的技术本身就是从零开始发展的，能够在短短20多年时间追平西方近200年的成就，实现独属于中国的第一代光刻机，这种成绩并不丢人，甚至应该感到自豪。有了这样的阶段性铺垫，中国的研发水平也会再上一个台阶，更快速的向前迈步。

事实上，美国近些年对中国半导体产业频繁进行打压，不仅出台了所谓的“芯片与科学法案”，还拉拢盟友对中国半导体原材料和设备相关展开制裁。日前，荷兰就没有顶住压力，宣布扩大光刻机的管制范围，虽然没有明确指向中国，但这是大家心知肚明的事情。面对西方的封锁，我国用光刻机技术突破的方式进行回击，不仅是划时代的技术突破，也是对西方制裁最强有力的回击。

荷兰虽然是个小国家，但该国的阿斯麦公司（ASML）几乎垄断了全球的光刻机市场，如果中国能够生产8纳米及以下芯片，那么中国在大多数中低端芯片的制造上就不会遭受限制。这也再次用事实证明了，西方对中国的封锁只会激发中国人的不屈精神，不断突破封锁，打破西方不平等的限制。

总的来说，中国技术实现突破，意味着美荷对中国的封锁是彻彻底底的失败，下一步两国将面临着中国对封锁制裁的反制，以及失去中国市场的巨大风险，毕竟中国本身就是芯片消费大国，美荷虽然技术领先，但造出来的东西总归是要有人用的，失去了中国市场意味着企业收益会大大降低，到时候反而是我们掌握主动权。