一直以来，芯片和操作系统都是中国科技面前的两座“大山”，美西方凭借着领先技术，对中国科技企业实施了长期打压。尤其在光刻机领域，中国芯也陷入了“卡脖”的困境。

没有光刻机，就没有办法生产芯片，尤其先进芯片。就目前来说，要生产7nm以下制程的先进芯片，就必须要有EUV光刻机。关于EUV光刻机，除了价格极其昂贵，产能有限外，全世界也只有一家公司能够制造，它就是ASML公司。

基于此，为了限制中国芯片产业的崛起，美西方就不断对ASML公司施压，限制其对华出口光刻机。在过去这些年里，中国芯几乎是“夹缝中求存”，只能采购一些“过时”的光刻机设备，且需要花费高额的费用。

但值得庆幸的是，尽管咱们依赖光刻机进口，但也没有放弃自研。美打压也变成了激励，中国科技企业加强了自主研发，增加了科研投入，就是想要打造属于自己的国产光刻机，时刻准备着。而从目前传来的新消息来看，拐点已经到了！

近日，ASML公司前高管公开承认，EUV光刻机或走到尽头了。这就意味着，国产光刻机终于等到了机会。一方面，ASML公司在技术方面的优势将会缩小，另一方面，国产光刻机厂商也拥有了更多的机会和时间来缩小差距，负负得正，这对于国产光刻机的发展是有利的。

客观来说，EUV光刻机确实已经没有“奔头”了，如今传统硅芯已经接近临界点，技术难度高、工艺复杂，再加上EUV光刻机造价太高，这就导致1nm-2nm芯片的成本会相当高，从经济角度来思考，硅芯时代已经几乎走到头了，那么EUV光刻机的用途也就大打折扣了。

现如今，很多半导体厂商都在寻找新赛道、新工艺和新材料，就是想要绕开传统硅芯，开启全新的芯片时代，抢先抢占市场，比如光子芯片、量子芯片、玻璃芯片等等，都被寄予厚望。而无论在哪一个赛道，EUV光刻机都不再那么重要，这就意味着，只要我们能够生产出国产光刻机，就有机会可以实现芯片的自给自足，不再依靠进口，从而真正实现独立自主。

截止到目前，中国芯已经传来了不少好消息，其一，中芯国际已经完成了7nm制程工艺，且加快了5nm制程工艺的研发，进一步缩小了和国际顶尖水平的差距。其二，上海微电子传出实现了28nm光刻机技术突破的消息。其三，“国家队”鼎力支持，中国半导体发展第三期大基金确定，将投入3400亿元，助力中国半导体产业发展。很显然，中国芯拥有“天时地利人和”，正在往积极的方向发展。

值得一提的是，ASML公司前高管明确表示，Hyper NA EUV光刻机很可能会是ASML公司最后一款EUV光刻机，而这款光刻机也可能无法投产。这就意味着，传统硅芯赛道已经到了尽头。只要能够寻找出新的赛道，中国芯就有望弯道超车。

而目前，中国芯在光子、量子芯片等领域，都处于全球领先水平。一旦美西方失去了ASML公司EUV光刻机这条“护城河”，中国半导体就有望摆脱“卡脖”，绝地反击，让我们拭目以待吧！