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导读：有望替代EUV？国产应用材料公司正式官宣，中国芯片有希望了？

众所周知，这几年来，老美多次修改芯片规则，想要对我国华为等中企进行打压；而老美的极限打压，也倒逼着国内的科技企业开始抛弃“买办”思想，并走上了自给自足的道路，为了能打造出属于我们自己的国产芯片产业链，不仅国家大力扶持半导体企业的发展，而且国内还有很多科技巨头企业也都纷纷进入了半导体芯片领域发展和布局！

在我国华为被打压之后，国内新增加的和半导体芯片相关的企业就超过了20000家，根据数据显示，在巅峰时期，全球每增加20家半导体芯片相关的企业，有19家都来自于中国；这也说明在过去几年，国内科技企业在半导体芯片领域正在疯狂发展；尽管说这其中有很多企业都是冲着补贴而来，但是也还有很多企业都在真心实意的研发前沿芯片技术，为了避免被西方国家卡脖子发展，国内有很多企业都在努力解决EUV光刻机等卡脖子的技术！

要知道，想要生产先进工艺的芯片，那么就必须要有先进的光刻机才行，而荷兰ASML公司所生产的EUV光刻机是生产7nm以下工艺芯片的必要设备，但在老美《瓦森纳协议》的限制下，我们就算是有钱也无法从ASML公司手中购买到先进的EUV光刻机，所以中国芯片想要突出重围，也必须要想办法寻找弯道超车的途径，并绕开EUV光刻机才行！

这几年来，我国的清华大学、中科院、以及上海微电子等机构和企业都在加快对光刻机卡脖子技术的研发；值得一提的是，随着国内科技企业的不断努力，如今国产应用材料公司正式官宣：已经研发出可用于光刻技术对芯片高精度检测的“电子束测量设备”，，并能实现对光刻成本的降低；而在业内这一技术也被证实有望替代EUV！

据悉，在芯片制造领域，很多科技企业都在努力研发新技术，并想要绕开EUV光刻机，而电子束硅片直写（EBL）技术作为最前沿的一种技术之一，已经被证实可用于先进工艺制程的制造，并对光学镜头起到替代的作用；目前市场上能提供EUV光刻镜头的主要是蔡司公司，而采用蔡司光学镜头的EUV光刻机极限波长为13.5nm；但采用100KeV的电子束，其波长最短可直接缩减到0.004nm，优势也还是比较明显的，国产科技企业研发出领先的电子束技术，也意味着中国芯片有希望了！

虽然说现在电子束技术已经被证实可以用于先进工艺制程芯片的制造，但真正落地也还需要一定的时间，所以国内科技企业也依然要认清和国外科技企业之间的差距，不能盲目自信；欧美在半导体芯片领域已经积累了近半个世纪的技术，中国芯片要想实现弯道超车，那么就必须要脚踏实地的努力进行研发，只有将核心技术掌握在我们自己的手中，中国芯片才有希望，不知道对此你是怎么看的呢？