今天，我国在半导体制造领域取得了举世瞩目的重大突破。中国首台自主研发的28纳米（nm）光刻机近日成功交付使用，这不仅是中国科技力量的一次飞跃，也是对全球芯片制造格局的有力冲击。这一里程碑式的成就，标志着中国在光刻机技术上打破了国际上的技术壁垒，迈入了先进光刻机的制造行列，为我国半导体产业的自主化发展注入了强大动力。

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  光刻机，被誉为“芯片制造的心脏”，其精密程度直接决定了芯片的性能和质量。它通过高精度的光学系统，将复杂的电路图案刻印在硅片上，是制造芯片的关键设备。长期以来，光刻机技术一直被少数发达国家垄断，尤其是荷兰的ASML公司，其技术在全球范围内占据主导地位。然而，此次中国自主研发的28纳米光刻机的诞生，打破了这一格局，展示了中国科技自主研发的强大实力。