作为全球唯一一个可以出货EUV光刻机的企业，ASML在光刻机领域拥有近乎“超然”的地位，排名第二和第三的尼康和佳能在市场份额方面更是被ASML拉开一大截。可是让ASML没有想到的是，其如今不仅面临着失去中国市场风险，还面临着被超越的可能。

近期日本半导体厂商佳能宣布实现了NIL技术的突破，制造出一款能够制造14nm制程芯片的设备，在改进掩膜版之后更是有可能实现2nm芯片制造。不少外媒表示：ASML没有想到，反击这么快就来了。

即将失去中国市场？

从ASML公布的财报数据来看，其第一季度来自于中国市场的营收为8%，第二季度来自于中国市场的营收为24%，第三季度的时候则是有46%的营收来自于中国市场。似乎ASML在中国市场的市场份额正在逐渐提高，可是这不过是表面上的“繁花似锦”罢了。

由于三方协议的缘故，荷兰宣布将限制2000i及后续型号的DUV光刻机出货，再加上因为瓦森纳协议被禁止出货的EUV光刻机。基本上38nm及以下制程的先进光刻机ASML都无法继续出货。

虽然ASML向荷兰申请的出货许可已经被荷兰通过，不过从ASML公开的信息来看，ASML的出货许可仅仅知道24年1月1日之前。这也就意味着如今ASML只剩下不到两个月的时间可以继续出货，如果后续没有获得新的出货许可，那么ASML很有可能将失去中国市场。

更重要的是，从美国商务部公布的消息来看，美国正在打算更正半导体设备出口细则，之后很有可能将会进一步限制已经先进光刻机的零部件出货。这必然会引起ASML的出货量暴跌，在全球市场当中的营收和市场份额都将受到严重的影响。

ASML没有想到，反击这么快就来了

如果说，或许将会失去中国市场有可能对ASML的营收和市场影响力造成不小的影响，那么尼康和佳能在NIL技术方面的突破很有可能对ASML造成“致命一击”，毕竟ASML之所以能够成为全球第一的光刻机厂商，最主要依靠的独一无二的EUV光刻机。

EUV光刻机的极紫外线技术是美国企业英特尔联合多家美国企业以及ASML一同研发的，ASML是唯一一个参加到研发当中的非美国企业，也是全球唯一一个使用极紫外线技术制造出EUV光刻机的企业。

也正是凭借着EUV光刻机，ASML才能够超越当时被誉为“双子星”的尼康和佳能，成为全球第一的光刻机厂商。可如果尼康和佳能也能够制造出生产先进芯片的半导体设备，那么ASML的优势就不再存在了。

20年的时候，尼康和佳能开始“押注”NIL纳米压印光刻机技术，在24年的时候公开了相关的消息，和EUV光刻机技术相比，NIL技术拥有功耗更低、成本更低并且污染更小等优势。

随着NIL技术的发展，其制程不如EUV光刻机技术的缺点也正在逐渐被弥补上。近期佳能更是宣布完成了一款型号为FPA-120NAZ2C的NIL半导体制造设备。从佳能公开的信息来看，这款设备最多可以制造14nm制程的芯片，可以等效为5nm工艺，如果改进掩膜有可能可以用于2nm芯片的制造。

目前包括凯侠、SK海力士等多家顶尖半导体企业已经计划引进NIL光刻机或者是已经开始利用NIL光刻机生产芯片。这意味着不少一旦NIL再次实现技术突破，可以制造出2nm芯片，必然会受到不少芯片厂商的认可。

最重要的是，NIL并没有美国技术的参与，这也就意味着美国无法限制尼康和佳能出货NIL设备。从此前尼康和佳能的表态来看，其准备加大NIL光刻机出货中国市场，在ASML被禁售的情况之下，尼康和佳能很有可能会迅速抢占ASML的市场份额。

毫无疑问，ASML的日子估计会越来越难过了，这也是为什么ASML近期一直在加速出货中国市场的原因。

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