美国彻底杀戏了！中国的EUV光刻机要来了！荷兰，会为自己跟着美国亦步亦趋付出惨重代价！ 2023年9月，在美国的持续施压下，荷兰政府正式开始限制ASML向中国出口EUV光刻机，但当时仍允许较低端的DUV设备出口。 然而，拜登政府很快就扩大了限制范围，连1970i和1980i型号的浸润式DUV光刻机也被纳入限制名单。 更加严苛的是，美国甚至要求ASML停止对已在中国的设备进行维修和维护工作，这一举措几乎等同于要彻底切断中国获取先进芯片制造能力的途径。 这种步步紧逼的限制策略，让荷兰陷入了进退两难的境地。 作为荷兰经济的支柱企业，ASML在中国市场的业务比重相当可观。 数据显示，2024年ASML来自中国大陆市场的收入占其总营收近50%。 然而，受到美国限制政策的影响，ASML的营收在2024年上半年同比下滑了15%。 更令ASML管理层担忧的是，2024年第三季度的订单量仅是市场预期的一半，总订单金额为26亿欧元，不及上一季度56亿欧元的一半，导致其股价在短时间内暴跌16%。 这一惨淡业绩直接反映了美国限制政策对ASML业务的严重打击。 值得注意的是，从2023年第三季度开始，中国已连续五个月成为ASML的最大市场，这使得在中美之间寻找平衡点变得尤为重要。 面对这种局面，荷兰政府开始重新审视自身立场。 2025年2月初，一个令人意外的消息传出：荷兰宣布将ASML对华销售的部分信息从敏感出口商品清单中剔除。 更重要的是，荷兰政府决定不再公开披露ASML对华销售的具体信息，这意味着外界将无法知晓ASML向中国出口了什么设备。 荷兰首相斯霍夫在接受彭博社采访时明确表示，荷兰政府应该可以自行决定什么样的政策，这非常重要，而且荷兰与中国保持着良好的贸易关系，将会针对此问题与中国交换意见。 这一态度转变发生在特朗普新政府即将上台的微妙时间点，显然是荷兰经过深思熟虑的战略调整，既避免了与即将上任的特朗普政府直接冲突，又为未来的中荷合作留下了空间。 在美国对中国半导体产业围追堵截的背景下，中国科研人员并没有坐以待毙，而是在光刻机技术领域取得了一系列关键突破。 这些进展正在逐步改变全球半导体竞争格局，也让美国的＂芯片遏制战略＂陷入了尴尬境地。 EUV光刻机被视为人类科技的巅峰之作，涵盖超过10万个精密配件，这些配件分别来自全球5000多家供应商。 正因如此，ASML曾放言即便将EUV图纸送给中国，中国也造不出来。 然而，经过7年的艰苦攻关，中国企业和科研机构接连公布了EUV光刻机的三大技术路线突破，这让西方业界震惊不已。 第一条路线来自上海微电子的LPP光源专利。 该技术通过优化锡靶轰击工艺，使得光源收集率在原有基础上大幅提升了15%。 与ASML的传统方案相比，这一技术可降低30%的镜面污染率。 ASML工程师们耗费15年才取得的突破，中国企业仅用一半时间就实现了，而且方案更为完善。 第二条路线是哈工大公布的DPP技术。 这一技术采用创新的放电等离子体方式，成功制备出了13.5纳米光源，从根本上颠覆了EUV的传统路径。 相比ASML采用的激光等离子技术，哈工大的方案在光源能量转化率、设备体积和造价等多方面都具有明显优势。 第三条路线则是上海光源推出的FEL技术。 这一技术在同步加速器基础上实现重大创新，推出的小型化自由电激光装置可稳定输出13.5纳米波长、250瓦的极紫外光束，各项技术指标已达到工业应用标准。 除了光源技术，中国在光刻机其他核心技术方面也取得了实质性突破。 2024年9月，工信部公布的一则文件显示，中国国产光刻机已能够大规模生产28纳米的芯片。 同时，上海微电子成功申请了7纳米光刻机的专利。 在关键零部件方面，哈工大开发出长脉冲激光器，华为申请了反射式物镜专利，中科院则推出了双工件台系统。 这些技术突破已引起全球半导体行业的高度关注。 美国半导体专家对中国的DPP技术路线给予了高度评价，认为这将催生EUV 2.0时代，重塑全球半导体产业格局。 同时，中国在其他科技领域也取得了平行突破，如国产AI大模型Deep Seek，其R1模型成本仅为550万美元，不到ChatGPT的十分之一，却在多个领域能够与GPT-4相比甚至超越，导致英伟达单日股价跌幅达17%，市值蒸发近6000亿美元。 面对中国技术进步的现实，ASML也开始调整策略。 一方面，它顶着美国压力开始隐瞒在中国大陆的销售数据；另一方面，它提议在中国市场设立光刻机维修中心，试图通过提供更好的售后服务来稳固自身在中国市场的地位。 与此同时，美国也在加速与日本、IBM等企业联合研发下一代高数值孔径的EUV光刻机，希望在技术上保持领先。 随着中国光刻机技术的逐步成熟，美国以尖端设备为支点构筑的芯片霸权壁垒正面临被打破的风险。
