2025年3月,中微公司宣布其ICP刻蚀机PrimoTwin-Star®反应台

高旭的世界 2025-03-28 08:17:39

2025年3月,中微公司宣布其ICP刻蚀机Primo Twin-Star®反应台之间的刻蚀精度已达到 0.2A。CCP双台机 Primo D-RIE®和Primo AD-RIE®的加工精度,也达到相同的水平。 中微公司2024年下半年实现零部件100%国产替代: 前端模块(EFEM)方面沈阳新松、兴宇宏、荣耀电子等企业在生产; 传输模块(TM)方面先锋精密生产的腔体,已批量应用于中微半导体的7nm及以下制程刻蚀设备; 工艺模块(PM)方面富创精密、江丰电子已经具备研制防腐涂层的实力。

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