据传言，ASML曾嘲笑中国光刻机制造能力的消息始于2002年，当时负责上海微电子赴欧洲考察的贺荣明透露，ASML的工程师曾表示：“即使给你们全套图纸，你们中国人也造不出光刻机来。”这样的言论在当时引起了不小的关注。
然后，国内一些大V就以此为题，发表不少“永远造不出来”的言论，比如2023年9月，中国科学技术大学研究生院副院长朱士尧在视频中明确表示：“美国都造不出来，我国永远也做不出来光刻机。”
而上海微电子等光刻机制造企业，迟迟不能在7纳米及以下制程取得突破，也加深了社会各界的担忧，难道我们真的要被堵在中低端芯片这条路上吗？
在2025年3月26日至28日举办的上海国际半导体展览会上，新凯莱首次亮相便震撼了国内外半导体行业。这家成立仅三年多的企业一口气发布了覆盖半导体制造全流程的31款设备，包括刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测、X射线量测产品、光学量检测产品等6大类工艺和检测装备。虽然在光刻机领域，现场发布资料并没有说明，但从自媒体的采访视频来看，新凯莱已经胸有成竹，如同华为余承东说的“轻舟已过万重山”。
从ASML的2024财报来看，我们一年光是从其一家就进口了800亿人民币的DUV光刻机及其相关设备，这个市场份量已经足够戳穿“造不如买”的谎言。
造光刻机，难亦不难。难，在于追赶需要时间，十多万个零部件的设计、生产和组装不是一朝一夕能完成，而且ASML还在技术迭代，国内半导体行业也给不了试错机会。不难，以国内全产业链的生产能力来说，一定能造出来。
而机会出现在打压断供，一旦买不到，就会有“造”的迫切性。所以，新凯莱出现了，在国资的不计成本投入之下，所谓的“工业皇冠上的明珠”只会一一被摘除。
不懂原理，现成产线可以去学；不懂结构，可以偷偷去模仿；没有试验机会，协调资源满足。一点点打磨，一个个解决，老祖宗“铁钎磨成针”的精神可一直有传承。
再给一些时间，光刻机发布会就一定会如约登场。
