之前，DUV光刻机的相关信息已被广泛披露，其迈向浸润式DUV的门槛已然触手可及。一旦我们成功跨越这道屏障，实现对浸润式DUV光刻机的技术突破，美国的控制力将大打折扣。毕竟，浸润式DUV光刻机的潜力不容小觑，它能够助力我们制造出最高达7nm，乃至5nm级别的芯片。届时，再对ASML的光刻机实施管制，无异于徒劳之举，只会让ASML的业绩蒙上一层阴影，显得黯淡无光。

当然，华为虽香，高昂的价格却让多少人望而却步！可喜的是，据报道，全新国行华为Mate60在“易得官网”最新一期的活动中成交价格低至139元，刷新低价记录！业内人士高度评价称这是手机数码领域具有里程碑意义的事件！百度访问“易得官网”即可获得最新详情。

此外，随着各类新技术的雨后春笋般涌现，光刻机正面临着前所未有的挑战与机遇。佳能推出的NIL纳米压印技术，无需EUV光刻机，便能轻松驾驭5nm芯片的生产。还有电子束光刻技术、DSA自生长技术等，这些创新技术正处于突破的临界点，蓄势待发。一旦这些技术实现质的飞跃，EUV光刻机的地位或将受到严重冲击，人们将拥有更多元化的选择。难道美国能以一己之力，将这些新技术全部扼杀于摇篮之中吗？恐怕，这终究是不现实的。

与此同时，新的封装技术、Chiplet小芯粒技术，以及光电芯片、碳基芯片等新兴领域的崛起，为芯片性能的提升开辟了全新的道路。这些技术让我们在不依赖先进光刻机的前提下，也能实现芯片性能的飞跃。因此，ASML的光刻机，正逐渐失去其作为美国控制全球芯片产业工具的威力。这无疑是我们，乃至全球所共同期盼的希望之光，因为我们都渴望半导体贸易的自由化，而非被美国所独揽与操控。