明确告诉大家。

中国科技自主可控的时代已经来临。

这可不是随便说说，而是有事实依据的。

因为就在近期，中国在光刻机领域取得了四大突破。

第一大突破，根据中国新闻网报道，2021年10月，长春光机所突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术，实现了中国超精密光学技术的跨越式发展。

第二大突破，2022年，清华大学团队利用PTB的计量光源完成了全球首次稳态微聚束的原理实验，据悉这实验可以轻松地获得高重复使用频率的极紫外光，而极紫外光正是高端EUV光刻机当中最为核心的光源。

这一突破不仅解决了极紫外光光源的难题，更为我国在高端光刻机领域打破国外垄断奠定了坚实基础。

第三项突破，同样在2022年哈尔滨工业大学也在高速超精密激光干涉仪上取得了重大进展，作为14纳米光刻机和高端EUV光刻机的核心部件，这一成果的重要性不言而喻。

第四项突破，由上海微电子自主研发并生产的28nm光刻机已在2023年底已经交付给市场使用，这意味着我国在光刻机领域又迈出了坚实的一步。

然而大家要知道的是，光刻机的制造是整个半导体行业最复杂的工艺，没有之一。

因为它不仅需要来自全球5000多家供应商的10万多个零部件，并且还要集成全球顶尖的物理学家，数学家等40多门学科的顶尖专家。

然而，中国仅仅用了不到十年的时间，就在光刻技术领域实现了从90纳米到28纳米的巨大飞跃，如今，更是向14纳米、7纳米发起挑战。

可以预见的是，未来随着中国在光刻机领域的不断突破，带动的产业价值将会超过数万亿元。

而背后掌握了核心技术的上市公司也将会迎来前所未有的机遇。

但经过深度复盘，发现当前真正具备这一技术的公司只有这三家。

其中一家公司不仅具备生产制造光刻机镜头的技术和能力，还拥有新型分光棱镜、紫外光刻镜头和光刻机的相关专利，当前股价才十元出头，后续风口一来，随时可能起飞

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