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在“芯片战”愈演愈烈的情况下，光刻机也时常被提及，因为光刻机是制造芯片必不可少的设备，所以也被称为半导体制造设备上的明珠。如果缺乏光刻机的话，即便是先进的制程工艺也无法实现量产。

但是想要生产光刻机的难度又非常高，全球能够生产光刻机的企业，是寥寥无几。日本的尼康、佳能，中国的上海微电子，还有荷兰的ASML。

相比较ASML公司，其他光刻机企业没有竞争优势，要知道全球能够生产EUV光刻机的，只有ASML，所以在高端光刻机市场，ASML是100%的垄断。所以ASML的光刻机在市场上，非常紧俏，并且是一机难求的局面。

因为对于芯片公司来说，想要量产制程工艺更先进的，5nm制程工艺以下的，都需要用到EUV光刻机，所以ASML的市场影响力是不容撼动的。我国虽然也有国产的光刻机，但是仅仅只停留在90mm上，差距还是非常大的。

即便是日本的尼康和佳能，同样也是无法量产高端的光刻机。ASML这种独有的优势，足以说明ASML在市场上的地位。我国在光刻机领域，也主要依赖进口，然而引进一台高端的光刻机却非常的难。

中芯国际早在2018年，就向ASML订购了一台EUV光刻机，但是却一直未能成功交付。在美方的影响下，ASML因为有依赖美方的技术和设备，所以出货也受到限制了。

就连日本在近期宣布，将对23项半导体设备进行出口限制，所涵盖的范围非常广泛，有外界分析，日本的限制将超出美国对中国半导体的限制。因为美国针对的是高端技术，而日本的限制下探到14nm及以下的制程工艺。

对光刻机的限制，已经上探到45nm。不过荷兰的考虑还是比较深远的，还是积极向为中国市场供货。荷兰ASML的温宁克表示，进入中国市场是必要的，随着其他客户的需求下降，ASML打算向中国出货更多设备，有望提升销售额。

所以ASML透露，并不是所有的DUV光刻机受到限制，像1980Di这款型号的光刻机就不受限制，该光刻机大多用于14nm及以上工艺，甚至能够达到7nm工艺。

ASML还表示，一些旧型号的DUV光刻机也是不受限制的，并且ASML的限制预计在夏天实施。这些足以说明，ASML对中国市场的重视，很希望获得中国市场。

根据最新的消息，ASML新增中标设备7台，除了1台工艺检测，其他6台都是光刻机设备，4台是KrF扫描式光刻机，2台是ArF扫描式光刻机。而招标的企业，是我国上海积塔半导体。

六台光刻机，中企正式宣布了，这也意味着ASML对中国市场的示好不是在口头上，确实在积极为我国出货光刻机，这对于我国目前的半导体市场来说，能够解决燃眉之急。

毕竟我国目前量产的光刻机还只是停留在90nm上，并不能够完全满足我国对光刻机的需求。所以如果ASML对我国供应更多光刻机，也是助力中国半导体的发展，而ASML也获得中国市场，这是双赢的局面。

不过即便是这样，我们还是要坚持自研的。因为有了这么多的前车之鉴，ASML的供货可能是短暂的，要是美国再次加大力度限制，ASML可能又要翻脸了。

正如ASML所说，是因为其他客户的需求下降，所以为ASML的前景担忧，开始寻求中国市场。外媒表示：ASML果然加速了。

我们目前不排斥接受ASML的光刻机，但是我们也不放弃自研的道路，我们始终要自己研发，只有这样才能彻底摆脱卡脖子，这种被动的局面。

不然很难保证后面不会在面临同样的处境，技术只有掌握在自己的手上，发展才能够不受限制。所以这并不能让我们抛弃自研的决心。