近段时间，关于美、日、荷三方制定的秘密协议，国内半导体市场一直是倍加关注。因为这项“新规”关乎着DUV光刻机接下来能否出货，该设备可应用于28nm成熟芯片制程，一旦受限，国产芯片的发展将会“雪上加霜”。

老美无论之前实施芯片禁令，或者组建四方芯片联盟，都是大张旗鼓，但这次却让人感到意外，三方对于协议的具体细节均是“守口如瓶”。不少业内人士猜测，主要是日、荷担心激起反制，还在权衡利弊，故而一直没有对协议进行最终“拍板”。

但明眼人都看的出来，美帝主义亡我之心，在它的极力推动下，限制DUV光刻机等半导体设备的出货协议，落地也只是时间问题。

果然，日本方面近期率先发声，称会按照“规则”去修改法令，从春季开始限制对中国出口先进半导体所需的设备，未来甚至可能不再向大陆市场派遣员工，之前已交付的设备也将停止维护。

相比日本，国内市场在意的是荷兰方面的态度，它在该协议中扮演的“角色”更加重要。因为ASML是一家荷兰公司，无论是光刻机设备的质量或者对大陆市场的出货数量，都远超尼康、佳能这些日企。

而且，AMSL曾公开警告美国不要限制对中国出口光刻机，否则会导致全球半导体供应链失去平衡。在过去两年时间，它已不止一次示好大陆市场，并加大了投资布局，中芯国际也与之签订了一份价值11亿美元的采购合同。

那么问题来了，在日本对“新规”亮明态度后，荷兰方面会“反水”吗？答案显然是否定的，就在近日，荷兰外贸部长也正式公开了协议，称考虑到安全问题，将会在2023年之前，与美方一起执行限制对中国出口半导体技术设备的规定。

这意味着，美日荷三方就“新规”已达成了一致。而就在荷兰方面发出声明后，被触及到根本利益的ASML，紧急作出了表态。

据ASML官网发布的公告，其中明确强调，这项“新规”主要针对先进芯片制程，所受限设备是最EUV光刻机和部分DUV光刻机。按照品类的划分，ASML在售的DUV光刻机有三种，分别是TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:1980Di。

其中前两种DUV光刻机的分辨率为193nm，相对先进，可实现10nm至7nm工艺芯片的制造，但均会遭到限制。以老美打压中国芯片产业的强硬态度，ASML估计很难申请到这两种设备的出货许可。

而1980Di的分辨率小于38nm，虽然也可通过多重曝光实现7nm芯片的生产，但良率和产能都很低，以至于综合成本过高，不符合7nm工艺的商业逻辑。因此，该设备主要被应用于14nm以上成熟制程，接下来也仍可自由出货。

在前不久，ASML就曾公开表示，2023年在中国市场的营收不受影响，可稳定提升至22亿欧元。如今又再次紧急表态，主要目的就是为了给中芯国际等大陆市场的芯片代工厂商吃一颗“定心丸”。

当然，即便国内28nm芯片制程现阶段不受影响，我们也不能掉以轻心。在最近两三年时间里，老美已不止一次的收紧限制范围，从当初的EUV光刻机，再到如今的部分DUV光刻机，没有谁能够保证它接下来不会对TWINSCAN NXT:1980Di下手。

也就是说，中芯国际等国内厂商在成熟芯片制程领域并没有到“高枕无忧”的时候，国产芯片被进一步“卡脖子”的风险依然存在。

人民日报的呼吁该重视了，核心技术买不来，靠人不如靠己。与其寄希望于他国企业，不如放弃一切幻想，不遗余力的加大研发投入，只有做到了“手中有粮”，才能不惧任何对手。

如今国28nm产光刻机正在“路上”，期待能早日迎来突破，千万不要因ASML这番仍可出货的表态而放松脚步，这或许是美霸凌主义的“疲兵之计”，它最不想看得到就是国产半导体补齐短板，而这也恰恰正是我们的当务之急。