光刻机是芯片制造过程中不可缺少的核心设备，近几年因为芯片重要性不断提升，光刻机也引发了更多关注。然而，全球能够生产芯片制造用的光刻机企业并不多。

虽然日本尼康和佳能也能生产，但基本上被荷兰ASML垄断，一家占了90%以上的中高端市场份额。不近，近日两条消息从俄韩传来，恐怕连ASML也难以淡定了！

尽管光刻机巨头ASML独家生产EUV光刻机，还占据了DUV光刻机绝大部分市场，但光刻机毕竟是超高端的精密设备，面向的客户范围并不太大，主要就是晶圆厂商。

前两年全球缺芯时，各地的晶圆厂商纷纷扩建，光刻机需求激增，ASML因此业务迅速攀升。然而突然间芯片形势整体下行，芯片开始出现过剩，晶圆厂扩建全面放缓。

连晶圆代工全球第一的台积电近日也发出通知，让主要供应商延缓制造设备的交付。

其中的重点设备就是ASML的EUV光刻机，之前就传出台积电削减了40%的光刻机订单。不只台积电，多个晶圆厂都纷纷削减资本支出，其中重点就是光刻机等设备。

在各大晶圆厂放缓扩产的情况下，大陆厂商却是个例外，中芯国际、华虹半导体、上海积塔等依然在加速扩产。于是，ASML想抓住这个机会，扩大向大陆市场出货。

然而美方却不允许，施压荷兰实施出口管制，这给ASML向中企出货带来不确定性。

这还不算，两条光刻机消息又从俄韩传来，恐怕ASML会更加难受。据俄媒报道的消息，俄罗斯自研光刻机近日又有了新进展，圣彼得堡已创建了一个光刻综合体。

俄罗斯相关专家表示，他们已经开发了两套用于生产微电子纳米结构的装置，第一阶段开发出使用X射线的光刻机，第二阶段开发出用于硅等离子化学蚀刻的设备。

与ASML的传统光刻技术相比，X射线光刻机的优势是不使用光掩模就能生产芯片。

值得一提的是，俄罗斯研发的无掩模X射线光刻机，计划达到的目标是EUV级别，因为X射线波长比EUV极紫外光还要短， 当地媒体称为ASML也做不到的光刻机。

关键是成本还非常低，第一台用于无掩模纳米光刻的机器成本约为500万卢布，约合人民币36.74万，而国外同类产品成本要高出数十倍，大约要100-130亿卢布。

除X射线光刻机外，还有消息显示，俄罗斯还计划2028年开发出7nm芯片光刻机。

由此可以看出，虽然俄罗斯面临西方的全面制裁，但也加快了芯片相关技术的自研步伐，还瞄上了非常复杂的光刻机，并且在较短的时间内就已经取得了一定进展。

要知道，俄罗斯的数学非常厉害，这是技术研发的基础，华为就在俄罗斯建了研发中心，之前一位默默无闻的俄罗斯小伙，就用超强的计算帮华为突破了3G技术。

不管俄罗斯的光刻机技术能否突破，都给我们提供了突破思路，这也让ASML忌惮。

另一个消息来自韩媒，指出在美方芯片限制不断加码的情况下，今年上半年大陆半导体最突出的成绩是半导体制造设备，即使这样大陆还将继续给予大幅资金支持。

接下来，大陆将聚集于突破尖端半导体制造设备，其中就包括荷兰半导体设备商ASML的光刻机技术，恐怕用不了多长时间，大陆就会打造出类似ASML的光刻机巨头。

因为近期华为推出的Mate 60 Pro，搭载了麒麟9000S芯片，这足以引发业界震惊。

我们突破光刻机技术，实现先进光刻机国产，恐怕是ASML不想看到的，因为大陆是全球最大的半导体市场，如今正在加速晶圆厂扩建，未来光刻机的需求非常大。

而美方实施芯片限制，促使大陆必须突破光刻技术，所以ASML才会多次对美发出警告，并且不断加大向中企的光刻机出货力度，就是想尽快占领更大的市场份额。

因此有外媒直接表示，ASML难以淡定了，来自俄韩的消息恐怕会让其情况更糟糕。