由于众所周知的原因，荷兰和日本的光刻机对中国供应面临限制，其他芯片设备和材料也受到很大的限制，这促使国产芯片产业链积极完善，以实现纯国产芯片工艺，虽然在光刻机方面还稍微落后，不过有一项国产芯片设备却进展神速，达到了3纳米。

这项设备就是刻蚀机，中微为国产芯片产业链企业当中的顶尖者，它基本上保持了与全球芯片工艺发展同步，在去年就已量产5纳米刻蚀机，近期消息指它已成功研发3纳米刻蚀机，再次赶上了全球先进水平。

中微能在刻蚀机方面达到世界先进水平，在于创始人尹志尧博士拥有先进的技术和广泛的人脉，他曾在英特尔、泛林、应用材料等企业工作过，积累了丰富的经验、技术，多年前他选择归国，立志为国产芯片产业链做出贡献，赶上世界先进水平，为此他带回了一个团队，为国产的刻蚀机发展打下了基础。

近几年中微在刻蚀机研发方面一直居于全球领先地位，去年研发的5纳米刻蚀机获得了最先进芯片代工厂台积电的认可，近期据称它研发出3纳米刻蚀机之后，也获得了台积电的认可，凸显出中微在技术方面确实达到了先进水平。

中微的刻蚀机达到全球领先水平，由此迅速抢占国内市场，据称国内有九成的刻蚀机都由中微供应，在诸多芯片设备、材料等环节，刻蚀机可以说是国产化比例最高的设备了，如今中国的刻蚀机不仅在国内市场独占鳌头，还开始走向海外市场，其中之一的客户就是台积电。

台积电愿意采用中微的刻蚀机，一方面在于促使刻蚀机企业之间互相制衡，另一方面则是中国的刻蚀机在成本方面有优势，这一直都是中国制造的重要优势，在如今芯片制造成本高企以及美国芯片连连压价的情况下，台积电当然优先选择技术领先、成本更低的中国刻蚀机。

刻蚀机为芯片制造的重要环节，据分析指出刻蚀机占芯片制造各个设备和材料的比例高达两成，仅次于光刻机，可以看出刻蚀机在芯片制造行业的重要性，国产刻蚀机在芯片产业链的重要环节取得突破，激励了国产芯片产业链加速发展。

据了解南大光电就已研发成功5纳米光刻胶，此外其他芯片材料也在加速突破，这些已取得突破的芯片设备和材料都在快速替代进口设备和材料，已让美国的科磊、应用材料、泛林集团等蒙受巨大的损失，据估计美国三大材料企业去年在中国市场就已蒙受了50亿美元的损失。

国产芯片设备和材料的进展，为国产芯片制造推进先进工艺的发展打下基础，有猜测认为国内的芯片制造企业已在采用国产芯片设备和材料推进7纳米工艺，可能已在小规模试产，随着国产芯片设备和材料的技术逐渐稳定，或许纯国产的7纳米工艺在不久的未来就能完全以国产芯片设备和材料实现大规模生产。

国产芯片设备和材料的进展已让美日荷紧张，ASML公布的今年二季度业绩就显示它大举增加对中国的光刻机供应，二季度对中国的光刻机供应量高达27台，较一季度的8台增加两倍多，显然国产芯片设备的进展，让他们担忧可能彻底失去中国市场，而抓住时间窗口大举抢占市场。