佳能公司的半导体机械部主管岩本和德称，佳能公司的纳米压印工艺能够制造出2 nm制程的晶片，而其制造成本则只有普通微影机的一半。岩本和德发表上述言论的四天前，荷兰半导体厂商 ASML宣布，其已经将世界上第一套高数值孔径 EUV (High Digital Aperture) EUV (EUV）光刻技术提供给英特尔，并将其应用于2 nm及以后的芯片制作中。

佳能紧跟其后，也是有意在气势上和 ASML拉开距离。佳能公司总裁御手洗富士夫说，奈米冲压工艺可以让较小的半导体厂商能够制造出更高级的晶片，让制造高级晶片不只是几家半导体厂商的专利。但谁敢用，谁就会用，佳能现在就需要一个有代表性的客户。

光刻机的两大技术之争

虽然都是2 nm，但 ASML和佳能在这一点上却走上了两条截然不同的发展道路。

自从美国德克萨斯公司于1958年采用光刻工艺研制出世界上最早的平板集成电路以来，光刻技术已支持了半导体行业60多年。ASML是世界上最大的光刻机公司，凭借着雄厚的技术基础和长期的发展经验，率先研发出了超高数值孔径 EUV （High NA）光刻机，通过提高光刻机的数值孔径，提高加工精度、性能和稳定性，推动光刻技术向2纳米及更低工艺领域的发展。

佳能走上了另外一条路，他们试图用纳米压印的方法来制作2 nm的晶片。岩本一德道：「奈米压印光刻，就是在一片晶片上，印上一层半导体电路，一次压印，便可在适当的地方，制作出复杂的2- D及3- D电路，如果加以改良，则可制造出2 nm以上的电路。」

《纳米压印光刻工艺及其制造设备》

更准确地说，与光刻这种常规的“投影”方式不同，纳米压印与“印刷”的方式更加相似。其中，纳米压印技术由图形压印和图形转印两部分组成，首先在掩膜板上刻蚀数奈米大小的电路，然后将光刻胶印制在晶片上，然后利用热压、紫外光等工艺将其固化，从而实现更高级、更高性能的晶片的制作。佳能公司的纳米压印技术可以印刷14 nm以下的图形，并在此基础上进一步完善，最终达到与2 nm制程相对应的10 nm电路图形。

因为纳米压印只是取代光刻，而且可以与刻蚀、薄膜沉积等其它芯片制作过程相兼容，所以只要引入一台更小型的纳米压印设备，便可直接与已有工业接轨，不仅可以减少设备成本，减少能源消耗，提升研究效率，同时也可以减少芯片生产商对于 EUV光刻机的依赖。

纳米压印技术的优点尚待检验

毫无疑问，2纳米制程制程制程技术的突破，将为全球晶片厂商间的激烈竞争，增加新变数。在高端集成电路制造装备之争中，纳米压印是否可以作为 EUV光刻“平替”，尚需检验。

其实，早在2014年，佳能就开始大举进军纳米压印领域，并收购了专注于纳米压印基本技术的分子光学公司。据悉，公司之前也尝试过采用纳米压印的方法来实现32 nm的逻辑结点，但是受到生产效率、资金以及良率的限制，目前的进展并不理想。在佳能公司完成并购之后，他们联合了自己的透镜技术和分子图像公司的曝光技术，并且和日本的记忆晶片生产商科克斯公司进行了十多年的合作，进行了将近十年的研究。在2023年十月，佳能公司正式发布了一款可生产高品质晶片的奈米印刷装置FPA-1200NZ2C。

但是，现实却很“骨感”。从前端设计到后端生产，再到封装测试，整个半导体行业都是相互关联的。在生产装备的上游，各种原料如光刻胶都要进行严格的匹配，并进行长时间的调试；在整个产业链的下游，设备制造商还需要和晶圆代工厂一起进行试错、磨合。对于佳能来说，下一步的发展，一个重要的问题就是它是否能够获得产业链上、下游的认证与认同。

“半导体行业是一条很长的产业链，如果只有一种光刻工艺，那就只能靠我们自己去摸索了。”罗国昭在接受《中国电子报》采访时表示：“在先进工艺下，光刻工艺的多重曝光与精确定位始终是一个难点。尽管佳能的纳米压印法可以从原理上解决聚焦、绕射偏移等难题，且具备一次成形的优点，然而，上述理论上的优势是否能够应用于实际制造，仍需拭目以待。”

有几个人敢用？有几个人知道怎么用？这是一个难题

在2纳米芯片生产设备的竞争中，佳能一直在寻找机会，试图开辟出一条新的道路，但是，要想成为一家真正的大公司，还需要得到市场的认同。罗国昭认为，现在佳能公司的科技水平很高，但最终的结果并不理想，要么是因为没有市场，要么是因为没有一个完整的产业链，所以才会出现这种情况。

用户，是佳能目前迫切需要突破的纳米压印技术。“这十多年来， ASML之所以能够迅速发展起来，就是因为其业务模式，而 ASML的大客户，三星，英特尔，台积电等，都是其大股东。这样一来， ASML公司的产品就可以第一时间投入使用，而客户也会给予 ASML相应的技术支援，从而在高端的半导体行业中， ASML占据了绝对的优势。”罗国昭补充道：“佳能的纳米印刷技术，已经证明了它的实力，但真正的难点，还是要看谁敢用，谁会用，佳能现在迫切需要一个有代表性的客户。”

佳能执行长御手洗富士夫说，他们的新型奈米印刷技术，可以让较小的半导体厂商能够制造高级晶片，让高端晶片的制造，不再只是几家半导体厂商的专利。这可能是一条和 ASML不同的道路。

假如奈米压印可以成为“宜室宜家”的先进制程，将对晶片代工产业的市场结构与晶片科技创新的步调，造成重大的冲击。不过，要实现这个目标，佳能仍有许多问题需要克服。