当前，ASML是全球唯一一款可以生产极紫外光(EUV)光刻机的公司。

目前ASML的光刻机都处在着一种被抢购的状态。

甚至可以说只要ASML多产出几台光刻机，市场就会砰然一声接过来。

台积电和Intel等一众半导体厂商对ASML的光刻机爱不释手。

最开始ASML推出了标准的EUV光刻机供大家上架。

这些光刻机售价高达1.4亿美元，随便买家都卖点肉痛。

后来ASML又推出了High NA EUV光刻机，这款的价格高达2.6亿美元，而High NA EUV光刻机的售价几乎已经要上涨了一倍。

即使这样，大家依旧愿意花高额的资金购买ASML的光刻机。

ASML的这些光刻机其实也确实都卖出了高价，因为其中的利润其实是相当可观的。

因为ASML的光刻机每台售价是1.4亿美元，而其实际制造成本仅为8000万美元。

其中的利润可想而知，足以让ASML公司在资本市场上挣得盆满钵满。

而且ASML手里还有着15个产业链上游的合作伙伴。

能够生产EUV光刻机核心部件的企业有着一些，划分到分支的供应链上去后，他们不得不加入到ASML的合作圈中去。

因为ASML也在进行着收购和投资捆绑的方式将这些制造EUV光刻机核心部件的企业捆绑到一起。

限制住了其他竞争对手的机会。

由于ASML已经手握巨资，且其光刻机技术又处于绝对技术领先的地位。

这让其光刻机在市场上处于绝对的垄断。

而且ASML还拥有着众多的核心技术。

例如光源等。

这也是ASML或许是被永远锁在市场竞争中的原因，被锁定的越深它身处的竞争环境就会越好。

ASML也不需要担心会有竞争者和他们争夺，唯一的一点不足也只是光刻机的产量。

以至于ASML的光刻机能够进入到市场上就已经是不容易了。

光刻机的性能也一直都在更新迭代过程中。

在2022-2023年间，ASML生产和交付了多台标准EUV光刻机。

而到2024年，ASML也开始生产High NA EUV光刻机。

但就在此时，EUV光刻机的市场上出现了一位不速之客，EUV光源市场上也出现了一家潜在的竞争者。

这家公司正是中国科学院高能物理研究所。

中科院高能物理所正在研发一种名为自由电子激光器(FEL)的激光器。

这种激光器可以作为光刻机的光源。

这让ASML也有了一丝慌乱。

因为一旦中科院高能物理所研发成功这种激光器，这将会对ASML构成非常大的威胁。

因为这种激光器不仅能够支持高端芯片的生产，并且在制造成本和功率转化率等方面，都要优于ASML的流行系统。

虽然在目前的情况下，ASML的光刻机拥有着绝对的市场优势。

但是随着FEL技术的成熟，市场格局将会发生颠覆性的变化。

本来ASML在光刻机市场上就占据着绝对的垄断地位，这也使得ASML坐收“渔翁之利”。

赚的盆满钵满。

即使是ASML将光刻机的价格提高一倍，仍然有人在排队购买，这就是ASML的实力所在。

但是如果FEL技术成熟，ASML就要面临危险了。

ASML的EUV光刻机采用的是惯性激光装置，而中科院高能物理所所要研发的FEL是基于强流电子束产生的自由电子激光。

那自由电子激光又具有什么优势呢?

自由电子激光的优势在于可以大大降低成本。

可靠性也会得以提高。

因为FEL采用的工质是氮气，而ASML的光刻机使用则是氙气。

氙气在进行压缩储存时，需要进行压缩到3000巴的压力。

这样坏了热池还要进行更换，换算下来，光刻机每年的运维成本就需要花费上千万美元。

而FEL的工质采用氮气，就会大大降低运维成本。

氮气在常温常压下就能使用，只要在光刻机使用一段时间后，需要对光刻机进行充注，并不需要将其更换。

这将大大降低公司的运维成本，很大程度上提高公司的生产效益。

而且，氮气在消耗后也会转化为氛围，在光刻机运行过程中，不会产生任何影响。

这也避免了ASML的光刻机在运行过程中需要爆罐的问题。

因为EUV光刻机的热池一旦运行发生故障，可能会形成氙气气泡，然后导致光刻机爆罐。

而FEL则没有这样的弊端，这就大大提高了光刻机的可靠性。

从一方面来看，ASML可能会渐渐不再掌握市场的主动权。

只要更先进的技术出现，ASML就会很可能会面临被超越的风险。

FEL技术一旦成熟，就会引发一场EUV光刻机市场的暴乱。

FEL光源在许多方面上都有着非常大的优势。

尤其是在技术方面，FEL光源的功率转化率较之ASML的光刻机的功率转化率要高很多。

目前ASML的EUV光源的功率转化率仅有3-5%。

而FEL光源在成熟后，其功率转化率将会达到30%以上。

FEL光源的效率要远高于ASML的EUV光源，ASML想要在市场上继续垄断地位，就要进一步提高光源的功率转化率。

但是ASML的光刻机并不是只有它们一家独享。

ASML有15家供应链公司的合作。

这15家供货商中，有多家企业出现在美国制裁“中国制造2035”名单上。

这15家公司分别是，Cymer、Nikon、Zeiss、Hoya、Tokyo Ohka、Fujifilm、Sumitomo Chemical、JSR、Merck KGaA、Shin-Etsu Chemical、KMG Chemicals、Linde、Air Products、Entegris、SUSS MicroTec等。

这15个公司几乎上游已经没有其他公司的参与。

这其中的主要原因就是美国要求将其纳入黑名单，限制对中国半导体的合作。

美国认为，ASML的光刻机可以制造7nm以下的芯片，已经是非常落后的技术了。

如果将这些技术转移到中国，那么中国将会在未来大幅度提高芯片的技术，这让美国十分害怕。

所以便将ASML的这些供应商加入限制清单中。

FEL光源要想达到ASML的水平，就必须要与这些公司建立合作，但是这些公司都在美国的限制名单中，所以FEL想要让其成熟，就需要很长一段时间。

同时，ASML的光刻机价格也很高昂，FEL的光刻机的价格也将会受到影响。

那么FEL光刻机能否打破ASML的统治地位呢?

这将会落在中国的半导体行业上。

如果他们能够攻克技术难点，那就是非常好的一件事。

让ASML的EUV光刻机价格下降，市场上再也不会出现芯片行业排队购买光刻机的现象。

那么，中国的FEL光源技术又有多大可能发展起来呢?

从国内的研究现状来看，目前FEL光源技术在稳定性和功率等方面都有了很大的进展。

在2025年的时候，就有望投入到使用中。

FEL光源一旦投入到使用中，将会刺激半导体领域的技术创新。

但是这并不意味着ASML就会被“干掉”，FEL光源技术投入市场后，会促使ASML更新其光刻机技术。

当FEL技术和ASML的技术都存在后，芯片制造的行业就进入到一个新的阶段。

这将会是半导体市场的一场新“乱战”。

尽管FEL光源技术的出现会让ASML感到焦虑，但是ASML也有着自身的技术壁垒。

如果ASML在新的技术竞争中失败，将会大幅度下降其市场份额。

另外，中国在半导体行业的发展上，国家也开始进行战略支持。

这种战略支持在一定程度上加速了FEL技术的研发。

但是在现如今的情况下，半导体行业的生态环境还是比较脆弱的。

一旦新的EUV光刻机进入市场，就要看市场如何选择了。

FEL光源技术将会成为未来的光刻机技术，它的出现将会改变现有的市场格局。

一旦这种技术成熟，ASML也会感到不安。

因为FEL光源能够降低成本，提高功率转化率，这将会大大提高生产效率，在市场上将占据一定优势。

ASML也会对他们进行一定的关注。

因为FEL光源是半导体领域中一项新的突破，这将会让半导体行业变得更加有活力。

所以FEL光源将会成为未来光刻机的技术。