据悉，美国处理器大厂英特尔已决定与日本官方研究机构在日本设立先进半导体研发中心，以提振日本半导体设备制造与材料产业。
英特尔与产综研将在日本设立开发基地美国英特尔（Intel）与日本国立研究机构产业技术综合研究所（产综研）将在日本国内设立最尖端半导体制造设备和材料的研究开发（R&D）基地。半导体是经济安全保障的重要物资，为了将在欧美等地获得的研究数据转移到日本的相关审查正日益变得严格。在日本国内建立配备最尖端设备的基地，将更便于开发制造设备和材料。
新基地计划3~5年后成立，将在日本研究机构中首次引进极紫外线（EUV）光刻设备。这种设备对生产电路线宽在5纳米以下的最尖端半导体不可或缺。日本产综研作为运营主体，英特尔则提供使用EUV制造半导体的技术等。总投资额预计达到几百亿日元。
企业将支付使用费，利用EUV进行试制和测试。新基地还考虑与美国研究机构进行技术合作和人才交流。
在日本国内致力于最尖端半导体量产的Rapidus计划2024年12月引进制造用的EUV设备，但研究机构并没有EUV。EUV设备的价格每台超过400亿日元。材料和设备厂商难以自己购买，因此正在利用比利时imec等海外研究机构的EUV设备实施开发。
开发新型EUV光刻机EUV在制造5nm以下先进芯片上扮演重要角色，不过一台EUV设备动辄售价约1.5亿美元，并非是许多材料商与设备商可单独负担的价格。
而资金不够雄厚的厂商目前只能使用海外研究机构的EUV设备来研发产品，例如比利时微电子研究中心（IMEC）。此外，日本政府与8家民间企业合资的晶圆代工厂Rapidus计划今年12月引进EUV设备，以便制造尖端制程芯片，不过日本研究机构目前尚无这类设备。
随着美中科技竞争日趋激烈，美国早已禁止EUV的对华出口，并加强了对于高端DUV相关技术和产品的出口管制，其中包含设备与材料，不过管制措施也导致厂商从海外研究机构回收数据到日本之际更加耗时。未来日本国内就能使用EUV光刻机，就能减少管制带来的阻碍。
荷兰光刻机大厂ASML是唯一的EUV光刻机供应商，不过生产芯片需要经过超过600道制程，而光刻机只是其中一环，其他相关设备与材料的发展也至关重要。
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