上海新阳
南大光电
彤程新材
roe(加权,公布值)(%)
0.31
10.49
8.21
销售毛利率(%)
32.11
47
23.96
营收同比(%)
23.22
77.64
7.73
净利润增长率(%)
-81.2
70.33
-12.87
总资产周转率(次)
0.14
0.29
0.29
存货同比增长率(%)
40.89
113.8
94.88
现金流占营收比(%)
-10.36
20.33
16.48
资本支出／折旧(%)
208.28
304.24
144.95
流动比率
2.61
2.23
1.19
速动比率
2.16
1.62
0.96
资产负债率(%)
26.18
42.27
54.29
产权比率(%)
0.36
0.91
1.23
管理层持股合计(%)
14.88
7.15
0.3
员工人数(人)
905
1301
1153
研究生(人)
77
83
126
本科生(人)
249
427
364
专科及以下(人)
579
791
0
人均薪酬(元)
9.96万
11.79万
12.79万
人均营收
96.93万
96.78万
160.17万
人均净利润
1.54万
16.23万
20.85万
上海新阳、彤程新材、南大光电均为中国光刻胶领域的领先企业，各自在光刻胶产品的研发、生产和市场定位上有所不同。
上海新阳产品线：上海新阳在光刻胶产品方面覆盖较为全面，涉及i线、KrF、ArF干法以及ArF浸没式光刻胶。公司致力于突破高端光刻胶技术，特别是在ArF浸没式光刻胶方面，产品已达到较高技术水平，适用于28纳米及以上的集成电路制造工艺。
技术优势：上海新阳在光刻胶技术研发上持续投入，与多家集成电路制造商建立合作，进行产品验证和应用评估，推动其光刻胶产品在本土市场的应用和进口替代。
市场定位：侧重于高端市场，特别是集成电路制造中的先进节点应用，致力于满足国内半导体产业对高端光刻胶的需求。
彤程新材产品线：彤程新材重点发展ArF高端光刻胶，特别是ArF干法和ArF浸没式光刻胶，已进行了大额投资以加速该类光刻胶的研发和产业化进程。
技术优势：彤程新材通过与高校、研究机构及行业伙伴合作，不断推进技术创新，加强其在高端光刻胶领域的技术积累和产品竞争力。
市场定位：同样定位于高端市场，专注于满足国内对高端光刻胶的迫切需求，特别是针对先进集成电路制造中的光刻工艺。
南大光电产品线：南大光电在光刻胶产品方面也取得了显著成就，其ArF光刻胶产品已进入多家客户验证阶段，适用于28nm到90nm工艺节点，是其光刻胶业务的重点。
技术优势：南大光电在光刻胶的合成、纯化及应用技术上拥有自主知识产权，持续优化产品性能，加快产品迭代，提升市场竞争力。
市场定位：致力于成为国产光刻胶技术的领航者，通过与国内半导体产业链紧密合作，推动产品验证和批量应用，以实现对进口产品的有效替代。
综上所述，这三家公司虽在光刻胶产品上各有侧重，但均在ArF光刻胶，尤其是ArF浸没式光刻胶方面发力，目标在于突破高端光刻胶技术，满足国内集成电路产业对高端材料的紧迫需求，推进半导体材料的国产化进程。
