三星电子（Samsung Electronics）削减了极紫外光（EUV）微影采购计划，跟荷兰半导体设备业龙头艾司摩尔（ASML Holding N.V.）合作研发中心进度卡关。
三星削减新型 EUV 采购量三星电子（Samsung Electronics）削减了极紫外光（EUV）微影采购计划，跟荷兰半导体设备业龙头ASML（ASML Holding N.V.）合作研发中心进度卡关。
2023年12月12日当天，韩国总统尹锡悦（Yoon Suk Yeol）访问ASML荷兰总部，陪同的人士包括荷兰国王Willem-Alexander、三星会长李在熔（Lee Jae-yong）、SK集团董事长崔泰源（Chey Tae-won）和ASML执行长Peter Wennink。三星、ASML也当场签订备忘录（MOU），准备在韩国都会区共同兴建EUV研发中心。然而，过了短短半年，两家公司的合作案传出生变。
据报导，三星7月稍早在会议上时通知ASML，决定削减次世代High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）微影设备的采购量；两家公司应该很快就会着手修改相关合约。
三星原本规划，未来十年采购的ASML次世代机台（分别是「EXE:5200」、「EXE:5400」及「EXE:5600」）将超过三台。然而，三星如今只决定导入EXE:5200，至于是否导入后续版本则会重新考虑。三星是在任命全永铉（Young Hyun Jun）接任装置解决方案（DS）事业群负责人，重新检视进行中的专案和投资计划后，做出了上述决定。
与ASML的联合研究中心陷入困境根据报道，三星在7月初的一次内部会议上通知ASML，决定大幅削减其原定采购的High-NA EUV光刻设备的数量。具体而言，三星原计划在未来十年内采购超过三台ASML的下一代设备，包括EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600。
然而，最新消息显示，三星目前仅决定引进EXE:5200型号，而是否采购后续型号将重新评估。这一决定是在全永铉（Young Hyun Jun）接任三星设备解决方案（DS）事业群负责人后，重新审视了正在进行的项目和投资计划的结果。
这一采购计划的调整，直接影响到了两家公司在韩国京畿道华城市（Hwaseong）共同建设的EUV研发中心项目。报道称，研发中心的土地采购和设计审批程序本已在稳步推进，但由于三星决定削减设备采购量，相关程序现已完全停滞。ASML与三星合作的研发中心是否会更改建设地点，甚或直接取消，目前尚无定论，这将是两家公司未来讨论的重点。
虽然三星高层表示High-NA EUV光刻设备的引进计划并未改变，并强调两家公司合作的研发中心将会在最合适的地点设立，但这一系列变动仍然引发了业内的广泛担忧。
一位业内专家指出，如果三星与ASML能够按原计划推进合作，三星不仅可以在引进先进EUV设备上领先于竞争对手，还能够近距离参与和观察EUV技术的开发过程。然而，如果计划发生改变，三星可能会错失这些宝贵的机会。
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