ASML的光刻机受到了全球芯片巨头们的追捧，而三星李在镕则是专程去了一趟位于荷兰的 ASML公司，想要得到一台更加先进的光刻设备。

以台积电为例，购入了数量庞大的极紫外光刻机，其产能约为 ASML的二分之一，占到全世界 EUV光刻机产量的63%。

作为 NA极紫外光刻的领导者，英特尔公司不但是 NA极紫外光刻的领导者，而且预计到2024年将有6款高端产品上市。

ASML公布的资料显示，2 nm以下的 EUV光刻机是2 nm光刻机的最好选择，而三星台积电也在引进 NA EUV。

在2022年， ASML总裁曾在公众面前宣称，在光刻工艺上取得了几十年的突破性进展之后，奈米的超高真空技术或许已经走到了尽头。

采用 NA型极紫外光刻可以使半导体制程缩短到2 nm或1.8 nm以下。在今后的发展中， ASML光刻工艺将向绿色、高性能方向发展。也就是说，极紫外光刻工艺的能耗和成本都很高。AMSL将在 NA- EUV光刻基础上，对工艺进行优化，减少能源消耗，减少制造成本。

在过去一年多的时间里， ASML出人意料地又有了新的突破性进展，布林克公司在其2023年的年报中介绍了Hyper-NA型 EUV的构想，并计划在2030年发布。

该研究指出，超过0.7的超脑网络技术将为未来2030年带来新的机会。

中国首台国产光刻机的交付，不仅是中国半导体产业的一个里程碑，也是对美荷封锁的一次有效反击。这一消息一经公布，就引起了国内外的广泛关注和热烈讨论。其中，最为震惊和不安的，就是美国和荷兰。

荷兰之所以敢于和美国一起对中国实施封锁，是因为他们认为自己在光刻机领域有着绝对的优势，中国无法自主研发光刻机，只能依赖他们的产品。然而，当中国自己造出了光刻机，荷兰就感到了威胁，因为他们意识到自己的垄断地位不再稳固，而且还可能失去中国这个巨大的市场。于是，荷兰的ASML公司就开始向政府施压，要求解除对中国的出口限制，恢复正常的贸易关系。这种态度的转变，无疑是对中国技术实力的一种承认，也是对美国封锁政策的一种质疑。

美国在看到中国突破光刻机封锁后，也感到了不安，但他们的反应却是更加奇怪的。原本，美国计划在2024年3月底结束对中国的芯片出口管制，但在中国交付光刻机后，美国却突然宣布延长了管制期限，同时又允许了一些美国企业向中国供货芯片，甚至包括一些被列入实体清单的企业，比如华为。这种自相矛盾的行为，让外界感到困惑，不知道美国的真实意图是什么。

其实，美国的这种做法，是出于一种战略考虑。美国知道，中国已经在光刻机领域取得了突破，未来将不再依赖外国的设备和技术，而是能够自给自足，甚至还可能成为竞争对手。因此，美国想要在这个过渡期，尽可能地从中国赚取更多的利润，同时也给自己的本土企业更多的发展空间。美国的目标是通过芯片法案，提升自己在半导体市场的份额，尤其是在全球竞争日益激烈的情况下。

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