ASML 是全球半导体产业发展先进制程的重要策略伙伴，也是全球最大半导体设备商，2023 营收与市值全球第一。

据中国台湾媒体《科技新报》报道，2024 年ASML 成立40 周年，随着客户需求的增长，为了客户提供最佳支持服务，同时优化量测、检测产品的研发支持能力，以及打造台湾成为全球供应链管理中心，持续招募与培育台湾地区顶尖人才。

ASML 表示，NA 值达到 0.55 之后，就没有改进的余地了，因此 ASML 认为这可能是 ASML 的最后一代 EUV 光刻机，因为它对其没有太大信心。

这种光刻技术可用于生产低至 2 纳米的芯片，因为 NA 越高，分辨率越高，加工成本就越低，据说还能生产低至 1 纳米的芯片。

NA=0.55 平版印刷机重达 150 吨，需要 250 个集装箱运往目的地，再加上 250 名工人才能在 6 个月内完成安装和调试。

目前，台积电和三星已完成 3 纳米工艺，预计到 2025 年将达到 2 纳米工艺，而英特尔计划到 2024 年达到 2 纳米工艺。

毫无疑问，新一代 EUV 光刻技术将成为各大代工厂竞相争夺的对象，它们都想抓住机会抢占市场份额，成为全球最大的 2 纳米工艺芯片生产商。

因此，ASML 前段时间宣布，几个主要客户已向 ASML 订购了二十台 EUV 光刻机。未来的目标是每年生产二十台光刻机。

2023 年 9 月，ASML 意外地获得了向中国出口先进光刻机的许可证，允许向中国出口 7 纳米 2000i 光刻机，有效期至 2023 年底。自此，中国成为 ASML 光刻机的积极进口国，仅 2023 年 9 月的出口量就增长了 18 倍多，随后几个月对中国的光刻机出口量也增长了数倍。

然而，2024年后不久，迫于众所周知的压力，ASML宣布该年后将无法再向中国出口先进的DUV光刻设备，导致ASML的收入一度大幅下降，业界认为失去中国市场对ASML将是一个重大打击。

现在，ASML 宣布新的 2 纳米 EUV 光刻机订单大幅增加：今年已经订购了 10 台 2 纳米 EUV 光刻机，明年的 EUV 光刻机也已售出 10 台，这将为 ASML 带来数十亿元的收入ASML 不需要担心今年和明年的收入，因为它们将

以前的数据显示，第一代 EUV 光刻机为 ASML 带来了丰厚的利润，比 DUV 光刻机带来的利润还要多，后者的销量只有几百台。这突出表明，先进的 EUV 光刻机利润非常可观，如今 2 纳米 EUV 光刻机的售价是利润更高的第一代 EUV 光刻机的两倍多。

ASML此前曾表态，一旦NA提升到0.55，将面临提升的困难，因此，这款光刻机很可能成为最后一代EUV光刻机。其高NA的设计使其能够应用于2nm及以下芯片的制造，分辨率得以显著提升，甚至有望实现1nm以下芯片的制造，为科技发展注入了新的活力。

EXE:5200光刻机不仅在技术上实现了飞跃，而且在规模上也堪称庞大。它重达150吨，运输时需要250个集装箱盒子，安装调试更是需要250名工人历时6个月，可见其巨大的体量与复杂的工艺。

目前，台积电、三星等企业已经实现了3nm工艺，预计将在2025年实现2nm，而英特尔更是计划在2024年实现2nm工艺。因此，这款新一代的EUV光刻机必定会引发几大晶圆厂的疯狂竞购，以争取更多的产能，占据市场先机。

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