近日，ASML公司的最新一代2nm芯片EUV光刻机——EXE:5200引发了行业轰动。据悉，这款光刻机的最大亮点在于其数值孔径NA的提升，从0.33一举跃升至0.55，标志着从低数值到高数值的转变，被称为High-NA系统，彰显出了科技制造的巅峰。
ASML已收获540亿元订单最近，ASML宣布其最新研发的2纳米极紫外线(EUV)光刻机订单大幅增加，今年的10台和明年的10台产能全部售罄。
这批订单总价值高达540亿元人民币，意味着ASML成功通过2纳米EUV业务弥补了无法向中国出售光刻机带来的损失。
ASML是全球最大的光刻机供应商，其产品几乎垄断了全球60%的光刻机市场，主要客户为台积电、三星和英特尔等头部芯片制造商。
光刻机是制造集成电路中的关键设备，其技术水平直接决定了芯片的制造工艺。
过去几年，ASML一直禁止向中国出口最先进的EUV光刻机，使中国在芯片制造领域处于严重依赖的状态。
然而，去年9月ASML突然获得了对华出口先进光刻机的许可。
这使中国得以大规模进口ASML的光刻机，出口量在短短几个月内就增长了18倍。
2nm光刻机问世作为全球最大的半导体光刻机供应商,ASML长期以来掌握着半导体制造的核心技术。此次ASML宣布其2纳米光刻机研发成功并投入使用,将光刻技术推进到一个新的历史高度,对未来半导体制造水平产生革命性影响。
业界分析认为,掌握了2纳米工艺的光刻机,将帮助半导体厂商生产出更小、更快、更省电的芯片。这将推动电子产品进入更小更轻薄的时代,对人类生活也将带来深远变化。
值得注意的是，此次ASML首批2纳米光刻机的订购方是intel公司,数量为6台。Intel在第一时间获得这样领先的技术,显示出其在半导体制造领域急于赶超的雄心壮志。
ASML：与中国脱钩不实际EUV光刻机是当下最先进的设备，主要用于7nm以下芯片制造，台积电、三星、英特尔等巨头，当年都是全力争取EUV光刻机。
但没有想到的是，今年第三季度，ASML仅获得了3台EUV光刻机订单。
EUV光刻机新增订单严重下滑，一方面是因为先进工艺产能过剩，台积电英特尔等巨头，不仅削减了资本开支，还砍掉了部分光刻机订单。
另一方面是美持续限制出货，导致中国厂商订购的EUV光刻机无法到货。
但今年第三季度，中国市场已经成为ASML最大的市场，贡献了超46%的营收。
所以ASML新任CEO明确表示，在芯片半导体领域，与中国等脱钩不切实际。 并表示2024年将会提升光刻机的产能。
因为目前的出货量，仅满足国内市场需求的一半。
其实，ASML温宁克也曾表示，禁止向中国市场出货光刻机不可取，中国厂商必然会找到其它替代办法。
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