厉害了我的国！官方宣布国产DUV光刻机横空问世！终于成了！点赞

9月9日，中国工信部发布了一份重磅科技目录，引起了很多人的关注。这次发布的内容包括氟化氩（ArF）光刻机和氟化氪（KrF）光刻机，这对中国来说意义重大。

图片来源it之家

巧合的是，这个消息恰好在荷兰宣布对光刻机出口实施限制的几天后公布，这让很多人觉得中国这是在给荷兰的管制一个有力的回应。俗话说得好，“求人不如求己”。那么，中国这次是不是就真的打破了西方国家的技术封锁呢？值得我们一探究竟。

我们都知道，光刻机在半导体制造中是不可或缺的核心设备，可以说谁掌握了光刻机，谁就掌握了芯片制造的关键。长久以来，光刻机市场一直被少数几家西方企业垄断，中国在这个领域一直是追赶者的角色。

这次公布的氟化氪和氟化氩光刻机，规格参数可是相当亮眼。氟化氪光刻机的晶圆直径是300mm，照明波长248nm，分辨率≤110nm，套刻精度≤25nm；氟化氩光刻机同样是300mm晶圆，照明波长193nm，分辨率更是达到了≤65nm，套刻精度高达8nm。

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而且，ArF光刻机的光源波长突破了193nm，缩短到134nm，NA值达1.35，可以实现7nm制程节点。看着这些数据，可能有些人觉得有点抽象，但其实这意味着中国在光刻机技术上已经取得了巨大进步，和国际顶尖水平的差距正在逐渐缩小。

其实，这次技术突破的背景也相当关键。9月6日，荷兰对光刻机出口实施了管制，这对中国的半导体制造无疑是个打击。不过，外部压力往往也是内部发展的动力。中国在这种背景下发布氟化氩和氟化氪光刻机。

不仅是一种强硬的回应，更是在向全世界表明：中国完全有能力实现光刻机的自主研发。这对提升中国制造业的整体水平具有重大意义。不管是家电、汽车还是芯片制造，这一进步带来的影响都是深远的。

更重要的是，28纳米光刻机在芯片制造中是一个非常重要的分界线。中国这次实现了这一技术的自主突破，意味着我们不再是只能跟在别人后面追赶的小弟，而是具备了与国际大厂平起平坐的实力。

而且，这次的技术突破不是简单的模仿，而是真正拥有自主知识产权的创新。工信部在发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中明确表示，这两款光刻机是国内首次实现重大技术突破的装备，这也给了它们在国内市场推广的强有力支持。

多年来，中国在高科技领域一直受到西方国家的技术封锁和打压。但这次光刻机的发布，展现了中国在这一领域从无到有、从0到1的艰难跨越。

这是无数科研人员默默耕耘的结果，也是中国在面对外部压力时坚持自我、不断创新的最好证明。未来，这两款光刻机的推广和应用，有望让中国在芯片制造和工业生产中摆脱对西方技术的依赖，真正实现工业的自主独立。

通过这次光刻机的发布，中国向世界展示了在高科技领域的雄心和实力。不管国际形势怎么变化，自主创新始终是一个国家立于不败之地的根本。

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